一、設備用途 ：

用于熔煉大容量高熔點難熔金屬/合金，適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設備主要技術參數：

1. 型號： KDPH-1250

2. 真空熔煉室：立式圓筒型側部開門，底部升降、雙層水冷真空室，爐門配置大口徑視窗。

3. 腔體尺寸：?600*500mm

5. 熔煉方式：等離子體距以及電弧熔煉相結合

6. 坩堝配置：設計雙坩堝爐盤切換使用，設計壹5kg獨立水冷坩堝工位，坩堝尺寸D150mm*50mm，底部配置大功率磁攪拌。2-3個D80*25mm半球形熔煉工位的坩堝盤，單工位容量500-100g并配置電磁攪拌，工位形狀可根據需要更改

7. 等離子體距熔煉電流：額定電流1250A 電壓150V 電源功率：≤100KW（具體根據實際調整）

8. 非自耗電弧電源≤100KW

9. 熔煉方式：采用轉移弧電弧熔煉

10. 真空系統配置：LDV-48直聯泵、KT-200擴散泵、一臺高真空擋板閥，兩臺氣動KF40擋板閥和旁路閥及管道組成。

11. 冷態極限真空度 ≤6.7x10E-3Pa

12. 工作氣體：Ar H2；

13. 電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

14. 電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜

15. 爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。

16. 設計光譜測試視窗。

17. 底部坩堝升降，裝卸料方便，雙功能電動切換，免拆卸