DCS直流快速真空熱壓燒結爐用途：

DCS快速真空燒結爐快速壓力燒結系統是當今世界上先進的快速熱壓爐燒結系統之一。具有燒結速度快，樣品致密度高等優點，是燒結納米相材料，梯度功能材料，介孔納米熱電材料，稀土永磁材料，合金玻璃非平衡態材料及生物CA料最有力的工具。

DCS直流快速真空熱壓燒結爐優勢：

(1) 燒結速度快:升溫速度最高可達1000°C/min,10-20min便可獲得高致密度的樣品;

(2) 設備投資少:無需昂貴的脈沖電源，性價比高;

(3) 燒結過程精準可控:所有燒結參數均可精確控制(燒結溫度、壓制壓力、環境氣氛等)可靠耐用易操作:

(4) 高質量液晶觸摸屏，程序化操作，一鍵啟動完成實驗;

(5) 5 燒結溫度低，保溫時間短，樣品晶粒來不及長大，有利于制備納米晶材料;

設備參數：

1·設備型號：KDCS-50-24

2. 加熱容量： 40KVA  380V/ 50Hz

3· 輸出參數： DC 0-4000A，DC 0-12V

4·樣品尺寸： Φ10～15mm

5· 溫度： ≤2400℃

6· 升溫速率： ≤1000℃/min

7· 壓力： ≤50KN(    伺服電動）

8· 壓力波動： ≤±100N

9·位移：≤ 100mm

10· 極限真空度：5Pa   5.0*10-3pa 可選

11· 充氣壓力：  ≤0.03MPa

12 氣氛介質：  N2（常溫，純度≥99.99%）

13 冷卻水： 水壓0.2~0.4MPa，水耗量約3-4m3/h

應用領域

金屬:Fe、Cu、AI、Au、Ag、Ni、Cr、Mo、Sn、Ti、W、Be;陶瓷氧化物:A1203、MulitexZr02、Mg、Si02、TiO、HfO2;碳化物:SiC、B4C、TaC、WC,ZrC,VC:

氨化物:Si3N4、TaN, TiN, AIN, ZrN, VN;

硼化物:TiB2、HfB2、LaB6、ZrB2、VB2:

氟化物:LiF、CaF2、MgF2;

金屬陶瓷:Si3N4+Ni AI203+Ni、ZrO2+Ni、AI203+Ti、SUS+WC/Co、BN+Fe、WC+Co +fe;金屬化合物:TiA、MoSi2、Si3Zr5、NiA1、NbCo、NbAl Sm2Co17: